集成電路制造工藝員（三級）章節(jié)練習(2019.05.04)

來源：考試資料網(wǎng)

1 恒定表面濃度的條件下，在整個擴散期間，（）保持恒定表面濃度。

2 薄膜沉積的機構，依發(fā)生的順序，可以分為這幾個步驟。其中不包括（）。

3 在靶片前方設一抑制柵，作用是將（）抑制回去，從而保證測量的準確性。

4 在半導體工藝中，如果淀積的薄膜不是連續(xù)的，存在一些空隙，則（）。

5 在半導體工藝中，與氮化硅比較，二氧化硅更適合應用在（）。

6 買來的新樹脂往往是Na型或Cl型，新樹脂使用前必須分別用酸（陽樹脂），堿（陰樹脂）浸泡約（）個小時，把Na型或Cl型轉換成H型或OH型。

7 物理氣相沉積簡稱（）。

8 濺鍍法，因為其階梯覆蓋的能力不良，很容易造成因填縫不完全所留下的（）。

9.問答題電磁線的作用是什么？請總結歸納各類電磁線的特點和用途。

其作用是實現(xiàn)電能和磁能轉換：當電流通過時產(chǎn)生磁場；或者在磁場中切割磁力線產(chǎn)生電流。

10.問答題光電耦合器的主要工作原理是什么？其主要特點是什么？主要參數(shù)有哪些？

參考答案：光電耦合器的主要工作原理是：
光電耦合器是利用光束實現(xiàn)電信號的傳遞。工作時，把電信號加到輸入端，使發(fā)光器件發(fā)光...