微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2019.05.09)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)
3.名詞解釋MASK
參考答案：掩模版。在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作...
參考答案：正；零；集電極；發(fā)射極
參考答案：1.樹脂。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì)，用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑
2.感光劑。是光刻膠材料...
參考答案：擴(kuò)散：擴(kuò)散區(qū)一般認(rèn)為是進(jìn)行高溫工藝及薄膜沉積的區(qū)域。
刻：使用黃色瑩光管照明使得光刻區(qū)與芯片廠中的其他各個(gè)區(qū)明...
參考答案：重?fù)诫s的硅要比輕摻雜的氧化速率快。