目的：降低駐波效應 不足：無法消除駐波效應，影響分辨率。 過度：造成光刻膠的聚合作用，影響顯影過程，導致圖形轉(zhuǎn)移失敗。
最新試題
目前制備SOI材料的主流技術有幾種？（）
摻雜后，退火的目的是（）。
影響封裝芯片特性的溫度有（）。
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
光刻工藝的設備核心是（）。
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）
新的平坦化方法有哪幾個？（）