化學氣相淀積(cvd) 電鍍 物理氣相淀積(pvd或濺射) 蒸發(fā) 旋涂方法
最新試題
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子?()
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
常壓的硅外延方法有()。
消除鳥嘴效應的方法有()。
當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎是()。
光刻工藝的設備核心是()。
摻雜后,退火的目的是()。
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。