利用高溫驅動雜質滲透進半導體內，此工序采用的設備是（）

敘述測試晶體管的方法？

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

說明功能檢測工裝的制作原理？

下列哪些是進行光刻前的預處理的步驟？（）

影響顯影工藝的因素有（）。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴重的情況，該情況引起的主要問題有（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）