敘述測試晶體管的方法？

在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

根據曝光模式，光制機的種類分為（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）