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多項選擇題

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

A.硫酸
B.氫氟酸
C.雙氧水
D.去離子水

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多項選擇題

回態(tài)源擴散的雜質(zhì)源有（）

A.硼酸三甲酯
B.氮化硼
C.硼
D.磷微晶玻璃片

多項選擇題

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）

A.在局部阻擋摻雜
B.對器件結(jié)構(gòu)造成連接或短路
C.對微小器件結(jié)構(gòu)造成溝型損傷
D.整片硅片報廢