微電子學判斷題每日一練(2020.03.15)

來源：考試資料網(wǎng)

1.判斷題如果光刻膠在曝光前可溶于某種溶液而經(jīng)過曝光后不可溶，則這種光刻膠為正膠。

2.判斷題用來制造MOS器件最常用的是（100）面的硅片，這是因為（100）面的表面狀態(tài)更有利于控制MOS器件開態(tài)和關(guān)態(tài)所要求的閾值電壓。

3.判斷題化學機械拋光（CMP）帶來的一個顯著的質(zhì)量問題是表面微擦痕。小而難以發(fā)現(xiàn)的微擦痕導致淀積的金屬中存在隱藏區(qū)，可能引起同一層金屬之間的斷路。

4.判斷題常用的IC設(shè)計方法有全定制設(shè)計方法、標準單元設(shè)計方法、門陣列設(shè)計方法和可編程邏輯電路設(shè)計方法等。對于性能要求很高或批量很大的產(chǎn)品，如存儲器、微處理器等，一般采用可編程邏輯電路設(shè)計方法。

5.判斷題EDA是計算機輔助測試的英文簡稱。