判斷題用來制造MOS器件最常用的是（100）面的硅片，這是因?yàn)椋?00）面的表面狀態(tài)更有利于控制MOS器件開態(tài)和關(guān)態(tài)所要求的閾值電壓。
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最新試題
光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。
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摻雜后，退火的目的是（）。
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互連工藝中AL的制備可選用（）。
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目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
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刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）
題型：單項(xiàng)選擇題