<samp id="iyexw"><sup id="iyexw"><var id="iyexw"></var></sup></samp>
<strong id="iyexw"><sup id="iyexw"></sup></strong>
<table id="iyexw"><menuitem id="iyexw"><ins id="iyexw"></ins></menuitem></table>
<strong id="iyexw"><sup id="iyexw"></sup></strong>
<strong id="iyexw"><sup id="iyexw"><thead id="iyexw"></thead></sup></strong>
網(wǎng)站首頁
考試題庫
在線?？?/a>
智能家居
網(wǎng)課試題
問&答
熱門試題
登錄 |
注冊
網(wǎng)站首頁
考試題庫
熱門試題
智能家居
網(wǎng)課試題
通信電子計算機技能考試
題庫首頁
每日一練
章節(jié)練習(xí)
半導(dǎo)體芯片制造工半導(dǎo)體制造技術(shù)問答題每日一練(2019.03.15)
來源：考試資料網(wǎng)
1.問答題
典型的光刻工藝主要有哪幾步？簡述各步驟的作用。
參考答案：
涂膠→前烘→對準(zhǔn)與曝光→曝光后烘烤→顯影→堅膜→顯影檢查
點擊查看完整答案
2.問答題
簡述在熱氧化過程中雜質(zhì)再分布的四種可能情況。
參考答案：
如果假設(shè)硅中的雜質(zhì)分布是均勻的，而且氧化氣氛中又不含有任何雜質(zhì)，則再分布有四種可能。①分凝系數(shù)m＜l，且在SiO
點擊查看完整答案
3.問答題
畫出側(cè)墻轉(zhuǎn)移工藝和self-aligned double patterning（SADP）的工藝流程圖。
參考答案：
4.問答題
以P
2
O
2
為例說明SiO
2
的掩蔽過程。
參考答案：
以P
2
O
2
雜質(zhì)源為例來說明SiO
2
的掩蔽過程：當(dāng)P
點擊查看完整答案
5.問答題
在銅互連中，為什么要用銅擴散阻擋層？阻擋層分成哪幾種，分別起什么作用？
參考答案：
1）銅在SiO
2
中極易擴散，造成對硅器件的沾污：增加SiO
2
的漏電流；增加結(jié)...
點擊查看完整答案
