- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項(xiàng)
問答題
【論述題】畫出側(cè)墻轉(zhuǎn)移工藝和self-aligned double patterning（SADP）的工藝流程圖。
答案：
你可能感興趣的試題
問答題
【論述題】簡(jiǎn)述電子束光刻的光柵掃描方法和矢量掃描方法有何區(qū)別。
答案：
在光柵掃描方法中，每一個(gè)像素必須被逐次掃描。這樣，曝光時(shí)間幾乎與圖形無關(guān)，圖形就是通過打開和關(guān)閉快門寫出來的。而已經(jīng)開發(fā)...
問答題
【論述題】浸沒式光刻機(jī)相對(duì)于傳統(tǒng)的光刻機(jī)有何不同。
答案：
根據(jù)瑞利判據(jù)：要提高分辨率，可以通過增大數(shù)值孔徑NA來實(shí)現(xiàn)。傳統(tǒng)曝光設(shè)備在鏡頭與硅片之間的介質(zhì)是空氣，空氣的折射率是1；...
