光學光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學機理和物理機理。

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴散的三個步驟。

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

解釋離子束擴展和空間電荷中和。