多項(xiàng)選擇題?提高光刻分辨率的途徑有（）。

A.增大數(shù)值孔徑NA
B.增大曝光波長(zhǎng)
C.減小曝光波長(zhǎng)
D.減小數(shù)值孔徑NA


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1.多項(xiàng)選擇題?光刻工藝流程中后烘的作用是（）。

A.消除駐波效應(yīng)
B.蒸發(fā)PR中所有有機(jī)溶劑
C.提高光刻膠和表面的黏附性
D.平滑光刻膠側(cè)壁

3.單項(xiàng)選擇題現(xiàn)代光刻工藝有10個(gè)步驟，其中4個(gè)是熱處理步驟，下列哪個(gè)熱處理順序是正確的？（）

A.前烘、后烘、打底膜、堅(jiān)膜
B.打底膜、前烘、后烘、堅(jiān)膜
C.預(yù)烘、堅(jiān)膜、前烘、后烘
D.打底膜、堅(jiān)膜、前烘、后烘

4.多項(xiàng)選擇題?Si3N4薄膜的特性有（）。

A.針孔少
B.對(duì)底層金屬可保形覆蓋
C.介電常數(shù)較大
D.擴(kuò)散掩蔽能力強(qiáng)

5.多項(xiàng)選擇題?Si3N4薄膜的用途有（）。

A.淺槽隔離的CMP停止層
B.最終鈍化膜和機(jī)械保護(hù)膜
C.MOSFETs中的側(cè)墻
D.選擇性氧化的掩蔽膜