在顯影過程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

刻蝕氮化硅薄膜時(shí)，可以用加熱的磷酸進(jìn)行刻蝕，此時(shí)的溫度一般設(shè)置在（）

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測(cè)方法是（）

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

（）可以通過帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。