多項(xiàng)選擇題濺射與蒸鍍比較，下列那種說法正確（）

A.蒸鍍工藝的普適性更好
B.濺射工藝的普適性更好
C.濺射工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好
D.蒸鍍工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好


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1.多項(xiàng)選擇題從兩電極面積判斷射頻濺射時(shí)，靶放在那個(gè)電極上、襯底放在那個(gè)電極上（）

A.襯底放在面積大的電極上
B.靶放在面積大的電極上
C.襯底放在面積小的電極上
D.靶放在面積小的電極上

3.單項(xiàng)選擇題poly-Si薄膜通常是采用什么方法制備的（）

A.PECVD
B.LPCVD
C.APCVD
D.LCVD

4.單項(xiàng)選擇題LPCVD-SiO2，將工藝控制在較高溫度，有：ks>hg，此時(shí)淀積速率的特點(diǎn)為（）

A.反應(yīng)劑氣體濃度的變化對(duì)淀積速率的影響不大
B.溫度的較小變化都會(huì)對(duì)淀積速率有較大影響
C.淀積速率受氣相質(zhì)量輸運(yùn)控制
D.淀積速率受表面化學(xué)反應(yīng)控制