進行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

新的平坦化方法有哪幾個？（）

摻雜后退火時間一般在（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關(guān)？（）

光刻工藝的特點包括（）。

CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。

互連工藝中AL的制備可選用（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。