多項選擇題

CMP的設備構成包括（）。

A.臺板
B.拋光液
C.拋光墊
D.夾持設備

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多項選擇題

新的平坦化方法有哪幾個？（）

A.固結磨料CMP技術
B.無磨粒CMP技術
C.無應力拋光技術
D.電化學機械平坦化技術

多項選擇題

光刻工藝對準誤差包括（）。

A.上下偏移
B.X或Y方向的平移
C.轉動
D.套準誤差

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