刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

鳥嘴效應造成的不良影響有（）。

CMP的設備構成包括（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）

厚膜電阻的成分，一是導體顆粒，二是（）。

光刻工藝的特點包括（）。

碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

消除鳥嘴效應的方法有（）。

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

芯片粘接的工藝過程包括（）。