環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設定于（）。

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

影響顯影工藝的因素有（）。

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

調試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？

金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）

利用高溫驅動雜質滲透進半導體內，此工序采用的設備是（）