離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進行刻蝕，此時的溫度一般設置在（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

敘述測試晶體管的方法？

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴重的情況，該情況引起的主要問題有（）