問(wèn)答題與以P阱CMOS工藝為基礎(chǔ)的BiCMOS工藝相比,以N阱CMOS工藝為基礎(chǔ)的BiCMOS工藝有什么特點(diǎn)?
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最新試題
從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過(guò)()等步驟。
題型:多項(xiàng)選擇題
版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
什么是無(wú)源電阻?什么是有源電阻?舉例說(shuō)明。
題型:?jiǎn)柎痤}
編寫(xiě)DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力,可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施?
題型:?jiǎn)柎痤}
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫(huà)出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。
題型:?jiǎn)柎痤}
由于襯底材料的緣故會(huì)自動(dòng)產(chǎn)生電容,這種電容稱(chēng)為()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類(lèi)()。
題型:多項(xiàng)選擇題
20世紀(jì)上半葉對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是()。
題型:多項(xiàng)選擇題