問答題編寫DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么?

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設(shè)計(jì)一個(gè)CMOS差分放大器電路,寫出其對(duì)應(yīng)的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。

題型:?jiǎn)柎痤}

MOS場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)在20世紀(jì)70年代得到了廣泛的接受,從那時(shí)起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類()和()。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。

題型:多項(xiàng)選擇題

從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。

題型:多項(xiàng)選擇題

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。

題型:多項(xiàng)選擇題

把半導(dǎo)體級(jí)硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過程,稱作()。生長(zhǎng)后的單晶硅被稱為()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個(gè)NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請(qǐng)畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。

題型:?jiǎn)柎痤}

在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。

題型:?jiǎn)柎痤}

在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。

題型:?jiǎn)柎痤}

為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力,可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施?

題型:?jiǎn)柎痤}

規(guī)定版圖幾何設(shè)計(jì)規(guī)則的意義是什么?

題型:?jiǎn)柎痤}