判斷題高密度等離子體刻蝕機(jī)是為亞0.25微米圖形尺寸而開發(fā)的最重要的干法刻蝕系統(tǒng)。
您可能感興趣的試卷
![](https://static.ppkao.com/ppmg/img/appqrcode.png)
最新試題
MOS器件存在哪些二階效應(yīng)?
題型:問答題
硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產(chǎn)生的()材料等。
題型:多項(xiàng)選擇題
編寫DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么?
題型:問答題
在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。
題型:問答題
什么是MOS器件的體效應(yīng)?
題型:問答題
比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
題型:問答題
版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
題型:問答題
集成電路電阻可以通過()產(chǎn)生。
題型:多項(xiàng)選擇題
根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型:問答題
晶體管的名字取自于()和()兩詞。
題型:多項(xiàng)選擇題