單項(xiàng)選擇題光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上的工藝()

A.刻制圖形
B.繪制圖形
C.制作圖形


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退火處理能使金絲和硅鋁絲的抗斷強(qiáng)度下降。()

題型:判斷題

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題型:判斷題