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單項(xiàng)選擇題
介質(zhì)隔離是以絕緣性能良好的電介質(zhì)作為“隔離墻”來(lái)實(shí)現(xiàn)電路中各元器件間彼此電絕緣的一種隔離方法。常用的電介質(zhì)是()層。
A.多晶硅
B.氮化硅
C.二氧化硅
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單項(xiàng)選擇題
二氧化硅在擴(kuò)散時(shí)能對(duì)雜質(zhì)起掩蔽作用進(jìn)行()擴(kuò)散。
A.預(yù)
B.再
C.選擇
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單項(xiàng)選擇題
Ⅰ號(hào)液是()過(guò)氧化氫清洗液.
A.堿性
B.酸性
C.中性
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