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介質隔離是以絕緣性能良好的電介質作為“隔離墻”來實現(xiàn)電路中各元器件間彼此電絕緣的一種隔離方法。常用的電介質是()層。
A.多晶硅
B.氮化硅
C.二氧化硅
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二氧化硅在擴散時能對雜質起掩蔽作用進行()擴散。
A.預
B.再
C.選擇
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Ⅰ號液是()過氧化氫清洗液.
A.堿性
B.酸性
C.中性
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