注入離子的射程主要由()決定。確定注入離子分布的主要參數(shù)是()及其()。注入離子分布的一級近似為()??蓪懗桑?img src="https://newimg.ppkao.com/2019-07/wangjing/2019070410290232389.jpg" />
最新試題
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有()。
金屬化中可選用的金屬材料有()。
光刻工藝的設(shè)備核心是()。
光刻工藝的特點包括()。
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結(jié)合來實現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移?()
封裝工藝中,銀漿固化的溫度為()。
互連工藝中AL的制備可選用()。
厚膜電阻的成分,一是導(dǎo)體顆粒,二是()。
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。
碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。