單項(xiàng)選擇題集成電路設(shè)計(jì)及制造中，版圖（Layout）與掩膜（Mask）的關(guān)系是（）。?
A.根據(jù)版圖提供的信息來(lái)制造掩膜
B.根據(jù)掩膜提供的信息來(lái)設(shè)計(jì)版圖
C.版圖（Layout）與掩膜（Mask）的毫無(wú)關(guān)系
D.不確定
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1.單項(xiàng)選擇題集成電路制造工藝中，以下對(duì)氧化速率沒(méi)有影響的因素是（）。?
A.溫度
B.厚度
C.硅晶向
D.摻雜
2.單項(xiàng)選擇題集成電路制造工藝中，以下不是熱氧化方法的是（）。?
A.干氧氧化
B.濕氧氧化
C.離子氧化
D.水蒸汽氧化
