單項(xiàng)選擇題以下集成電路版圖(Layout)設(shè)計(jì)技術(shù)及方法,不正確的是()。
A.版圖設(shè)計(jì)之前需要科學(xué)規(guī)劃
B.合理設(shè)計(jì)金屬連線的寬度
C.襯底應(yīng)該保證良好的接地
D.電路中較長(zhǎng)的走線,不需要考慮到電阻效應(yīng)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項(xiàng)選擇題集成電路設(shè)計(jì)及制造中,版圖(Layout)與掩膜(Mask)的關(guān)系是()。?
A.根據(jù)版圖提供的信息來(lái)制造掩膜
B.根據(jù)掩膜提供的信息來(lái)設(shè)計(jì)版圖
C.版圖(Layout)與掩膜(Mask)的毫無(wú)關(guān)系
D.不確定
2.單項(xiàng)選擇題集成電路制造工藝中,以下對(duì)氧化速率沒有影響的因素是()。?
A.溫度
B.厚度
C.硅晶向
D.摻雜