光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。

敘述測(cè)試晶體管的方法？

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。

電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測(cè)方法是（）

試說明ICT測(cè)試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點(diǎn)？

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。