判斷題步進(jìn)光刻機(jī)的三個(gè)基本目標(biāo)是對(duì)準(zhǔn)聚焦、曝光和合格產(chǎn)量。
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在晶體材料中,對(duì)于長程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是()。
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目前集成電路版圖設(shè)計(jì)的主流工具有哪些?
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根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型:問答題