單項(xiàng)選擇題有機(jī)性氣體大多產(chǎn)生在下列哪道工藝()。
A.離子注入
B.刻蝕
C.擴(kuò)散
D.光刻
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1.多項(xiàng)選擇題空氣污染物按照處理性質(zhì)來(lái)分:有()。
A.酸堿性氣體
B.有機(jī)性氣體
C.特殊毒性氣體
D.水蒸汽
E.中性氣體
2.多項(xiàng)選擇題凈化室里廢氣收集管系統(tǒng)分為兩類,分別是()。
A.一般排氣系統(tǒng)
B.特殊排氣系統(tǒng)
C.制程排氣系統(tǒng)
D.專用排氣系統(tǒng)
E.排氣排水系統(tǒng)
3.多項(xiàng)選擇題靜電釋放帶來(lái)的問(wèn)題有哪些()。
A.金屬電遷移
B.金屬尖刺現(xiàn)象
C.芯片產(chǎn)生超過(guò)1A的峰值電流
D.柵氧化層擊穿
E.吸引帶電顆?;驑O化并吸引中性顆粒到硅片表面
4.單項(xiàng)選擇題由靜電釋放產(chǎn)生的電流泄放最大電壓可以達(dá)()。
A.幾伏
B.幾十伏
C.幾百伏
D.幾萬(wàn)伏
5.單項(xiàng)選擇題ESD產(chǎn)生()種不同的靜電總類。
A.1
B.4
C.3
D.2
最新試題
當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí),一般使用()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
一般情況下,刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn),又有可接受的選擇比的刻蝕方法是()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是()
題型:多項(xiàng)選擇題
離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中,采用的掃描方式有()
題型:多項(xiàng)選擇題
試說(shuō)明ICT測(cè)試電阻器阻值的原理?為什么要加隔離點(diǎn)?
題型:?jiǎn)柎痤}
通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
以下是離子注入過(guò)程中的主要參數(shù)的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi),此工序采用的設(shè)備是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題