多項(xiàng)選擇題離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中,采用的掃描方式有()
A.靜電掃描
B.機(jī)械掃描
C.混合掃描
D.平行掃描
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你可能感興趣的試題
1.多項(xiàng)選擇題傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有()
A.反刻法
B.高溫回流法
C.旋涂玻璃法
D.化學(xué)機(jī)械拋光法
2.多項(xiàng)選擇題金屬薄膜制備中常見(jiàn)的濺射方式有()
A.直流濺射
B.射頻濺射
C.磁控濺射
D.準(zhǔn)直濺射
3.多項(xiàng)選擇題鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是()
A.陽(yáng)極短路
B.陽(yáng)極斷路
C.陰極短路
D.陰極斷路
4.多項(xiàng)選擇題影響顯影工藝的因素有()。
A.曝光度
B.顯影液濃度
C.顯影方法
D.工序的溫度和時(shí)間容量
5.多項(xiàng)選擇題下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟?()
A.脫水烘烤
B.旋轉(zhuǎn)涂布法涂HMDS
C.氣拍涂底法涂HDMS
D.軟烘
最新試題
在離子注入完成后,檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況,該情況引起的主要問(wèn)題有()
題型:多項(xiàng)選擇題
影響顯影工藝的因素有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
通過(guò)分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來(lái)判斷是否達(dá)到終點(diǎn)的終點(diǎn)檢測(cè)方法是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括()
題型:多項(xiàng)選擇題
通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
()可以通過(guò)帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選,挑選出唯一需要注入的離子。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
光刻膠對(duì)人部分可見(jiàn)光敏感,但對(duì)()光不敏感。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
一般情況下,刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
以下是離子注入過(guò)程中的主要參數(shù)的是()
題型:多項(xiàng)選擇題
分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù),在檢驗(yàn)時(shí)發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時(shí),判斷其造成原因有()
題型:多項(xiàng)選擇題