多項選擇題鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是()
A.陽極短路
B.陽極斷路
C.陰極短路
D.陰極斷路
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1.多項選擇題影響顯影工藝的因素有()。
A.曝光度
B.顯影液濃度
C.顯影方法
D.工序的溫度和時間容量
2.多項選擇題下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟?()
A.脫水烘烤
B.旋轉(zhuǎn)涂布法涂HMDS
C.氣拍涂底法涂HDMS
D.軟烘
3.多項選擇題根據(jù)曝光模式,光制機(jī)的種類分為()。
A.接觸式曝光
B.接近式曝光
C.掃描式曝光
D.投影式曝光
4.多項選擇題刻蝕的過程中,對刻蝕的要求是()
A.圖形的保真度高
B.選擇比越接近1:1越好
C.均勻性好
D.晶圓表面的潔凈
5.多項選擇題以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是()
A.均勻性好
B.圖形保真度高
C.選擇比低
D.潔凈度高
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()可以通過帶電粒子在盛場作用下做運(yùn)動把粒子進(jìn)行篩選,挑選出唯一需要注入的離子。
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敘述測試晶體管的方法?
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在離子注入完成后,檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況,該情況引起的主要問題有()
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下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟?()
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刻蝕的過程中,對刻蝕的要求是()
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通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于()
題型:單項選擇題