問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】刻蝕工藝有哪兩種類型？簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。

答案： 刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕。
干法刻蝕是把硅片表面曝露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體，等離子體通過(guò)光刻膠中開出的窗口...
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
答案：

連續(xù)噴霧顯影、旋覆浸沒(méi)顯影。
顯影溫度，顯影時(shí)間，顯影液量，硅片洗盤，當(dāng)量濃度，清洗，排風(fēng)。
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
答案： 光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢，選擇比越高，反應(yīng)速度越快，所以要比例高。
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