問答題刻蝕工藝有哪兩種類型?簡(jiǎn)單描述各類刻蝕工藝。
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描述RF濺射系統(tǒng)。
題型:?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。
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定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低?高選擇比意味著什么?
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光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處?
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例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。
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什么是摻雜?例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型?
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描述曝光波長(zhǎng)和圖像分辨率之間的關(guān)系。
題型:?jiǎn)柎痤}
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么?
題型:?jiǎn)柎痤}