問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

答案： 光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢，選擇比越高，反應(yīng)速度越快，所以要比例高。
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【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
答案： 光刻膠顯影是指用化學(xué)顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域，其主要目的是把掩膜版圖形準(zhǔn)確復(fù)制到光刻膠中。
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答案： 投影掩膜版是一種透明的平板，在它上面有要轉(zhuǎn)印到硅片上光刻膠層的圖形。
投影掩膜版只包括硅片上一部分圖形，而光掩膜...
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