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問答題
【簡答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
答案:
連續(xù)噴霧顯影、旋覆浸沒顯影。
顯影溫度,顯影時間,顯影液量,硅片洗盤,當量濃度,清洗,排風。
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【簡答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低?
答案:
光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應的速度快慢,選擇比越高,反應速度越快,所以要比例高。
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【簡答題】解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么?
答案:
光刻膠顯影是指用化學顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域,其主要目的是把掩膜版圖形準確復制到光刻膠中。
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