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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
答案：
連續(xù)噴霧顯影、旋覆浸沒顯影。
顯影溫度，顯影時(shí)間，顯影液量，硅片洗盤，當(dāng)量濃度，清洗，排風(fēng)。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
答案：
光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢，選擇比越高，反應(yīng)速度越快，所以要比例高。
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
答案：
光刻膠顯影是指用化學(xué)顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域，其主要目的是把掩膜版圖形準(zhǔn)確復(fù)制到光刻膠中。
