473K時硅的求本征硅的電阻率ρi。
最新試題
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是()。
鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有()。
影響封裝芯片特性的溫度有()。
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標?()
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
互連工藝中AL的制備可選用()。
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種?()
芯片粘接的工藝過程包括()。