<b id="gu4mc"><dfn id="gu4mc"><delect id="gu4mc"></delect></dfn></b>

<div id="gu4mc"><progress id="gu4mc"></progress></div>

問答題

【簡答題】什么是硅片的自然氧化層？由自然氧化層引起的三種問題是什么？

答案：自然氧化層：如果曝露于室溫下的空氣或含溶解氧的去離子水中，硅片的表面將被氧化。這一薄氧化層稱為自然氧化層。硅片上最初的自...

你可能感興趣的試題

【簡答題】對凈化間做一般性描述。

答案：凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離，免受諸如顆粒、金屬、有機分子和靜電釋放（ESD）的玷污。一般來講，那意味著這些玷污在...

【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。

答案：氧氣（O₂）、氬氣（Ar）、氮氣（N₂）、氫氣（H₂）和氦氣（He）。

<cite id="tm3lp"><progress id="tm3lp"></progress></cite>

<b id="tm3lp"><dfn id="tm3lp"><ul id="tm3lp"></ul></dfn></b>

<table id="tm3lp"><nav id="tm3lp"></nav></table>

<samp id="tm3lp"></samp>