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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】對(duì)凈化間做一般性描述。
答案:
凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離,免受諸如顆粒、金屬、有機(jī)分子和靜電釋放(ESD)的玷污。一般來(lái)講,那意味著這些玷污在...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
答案:
氧氣(O
2
)、氬氣(Ar)、氮?dú)猓∟
2
)、氫氣(H
2
)和氦氣(He)。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
答案:
去離子水:在半導(dǎo)體制造過(guò)程中廣泛使用的溶劑,在它里面沒(méi)有任何導(dǎo)電的離子。DI Water的PH值為7,既不是酸也不是堿,...
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