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判斷題

涂膠前的打底膜是為了增強光刻膠與襯底之間的浸潤性。

答案：正確

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實際擴散工藝通過調整爐溫比調整擴散時間對結深的影響更大。

答案：正確

中子嬗變摻雜不能用于制備p型硅錠。

答案：正確

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