- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項(xiàng)
問答題
【簡答題】哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。
答案：
多晶硅等離子刻蝕用的化學(xué)氣體通常是氯氣、溴氣或二者混合氣體。
刻蝕多晶硅的三步工藝：
1.預(yù)刻蝕，用于去...
刻蝕多晶硅的三步工藝：
1.預(yù)刻蝕，用于去...
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】描述電子回旋共振（ECR）。
答案：
ECR反應(yīng)器在1~10毫托的工作壓力下產(chǎn)生很密的等離子體。它在磁場環(huán)境中采用2.45GHZ微波激勵源來產(chǎn)生高密度等離子體...
問答題
【簡答題】解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
答案：
在純化學(xué)機(jī)理中，等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)元素（自由基和反應(yīng)原子）與硅片表面的物質(zhì)發(fā)生應(yīng)。物理機(jī)理的刻蝕中，等離子體產(chǎn)生的帶能粒...
