問答題

【簡答題】描述電子回旋共振（ECR）。

答案： ECR反應器在1~10毫托的工作壓力下產(chǎn)生很密的等離子體。它在磁場環(huán)境中采用2.45GHZ微波激勵源來產(chǎn)生高密度等離子體...

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【簡答題】解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

答案：在純化學機理中，等離子體產(chǎn)生的反應元素（自由基和反應原子）與硅片表面的物質(zhì)發(fā)生應。物理機理的刻蝕中，等離子體產(chǎn)生的帶能粒...

【簡答題】干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

答案：干法刻蝕的主要目的是完整地把掩膜圖形復制到硅片表面上。
干法刻蝕的優(yōu)點：
1.刻蝕剖面是各向異性，具...