例舉雙大馬士革金屬化過程的10個(gè)步驟。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？