判斷題

在熱氧化過程的初始階段，二氧化硅的生長速率由氧化劑通過二氧化硅層的擴(kuò)散速率決定，處于線性氧化階段。

答案：錯誤

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用來制造MOS器件最常用的是（100）面的硅片，這是因為（100）面的表面狀態(tài)更有利于控制MOS器件開態(tài)和關(guān)態(tài)所要求的閾值電壓。

答案：正確

【簡答題】列出幾種常見封裝的名稱。

答案：