A.一根
B.兩根
C.三根
D.三根及三根以上
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A.增大焦距
B.減小曝光量
C.減小射線強(qiáng)度
D.減小射線能量
A.工件反差
B.底片反差
C.膠片反差
D.靈敏度
A.30℃
B.40℃
C.50℃
D.60℃
A.半衰期
B.電子層
C.半價(jià)層
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最新試題
什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)?x射線機(jī)說(shuō)明書給出的是哪個(gè)焦點(diǎn)?焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算?
交流電流在試驗(yàn)物體中產(chǎn)生渦流。矢量Hs代表試件中的二次交變磁場(chǎng),只有具有哪種作用渦流檢驗(yàn)才有意義()。
新置的Ir192γ射線源,其活度為40Ci,現(xiàn)今時(shí)隔300天,已知,Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度?該源新置時(shí),對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min,若所有條件不變,現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘?
通過(guò)一次線圈的交流電產(chǎn)生一個(gè)磁場(chǎng)并在棒材中產(chǎn)生渦流,二次線圈的電壓取決于()。
用××2005型×光機(jī)180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫,已知焊縫寬度b=10mm,焦點(diǎn)尺寸3*3,試求①滿足Ug=3Ui,橢圓開口間距g=5mm時(shí)的透照距離L1和透照偏移距離S(設(shè)Ui=0.0013V0.8,膠片離管子底面距離3mm)②若透照距離L1=800mm,則此時(shí)Ug為Ui的幾倍?
下面哪種是圍繞線圈在導(dǎo)體中感應(yīng)出的渦流的一個(gè)性質(zhì)()。
頻率比在什么條件下,表面下裂紋的信號(hào)振幅增大()。
試驗(yàn)線圈激勵(lì)電流應(yīng)保持恒定,這樣用渦流系統(tǒng)得到的試件信息()。
下圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來(lái)測(cè)定()。
圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來(lái)測(cè)定()。