A.渦流
B.一次線圈
C.發(fā)生器
D.以上都是
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.可以由若干個(gè)參數(shù)產(chǎn)生
B.可依據(jù)有關(guān)的變量進(jìn)行選擇
C.對(duì)不同參數(shù)的變化,響應(yīng)的相位和大小不同
D.以上都是
A.試驗(yàn)頻率
B.試件溫度
C.試件硬度
D.試件磁導(dǎo)率
E.以上都是
A.熱處理
B.電導(dǎo)率
C.填充系數(shù)
D.磁導(dǎo)率
A.相位
B.電阻
C.感抗
D.阻抗
A.fg=μ/d2
B.fg=μ/2
C.fg=5060/σμd2
D.fg=R/L
最新試題
交流電流在試驗(yàn)物體中產(chǎn)生渦流。矢量Hs代表試件中的二次交變磁場(chǎng),只有具有哪種作用渦流檢驗(yàn)才有意義()。
JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定磁軛的磁極間距應(yīng)控制在()。
渦流的相似定律是什么?在渦流檢測(cè)中有何作用?
什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)?x射線機(jī)說(shuō)明書(shū)給出的是哪個(gè)焦點(diǎn)?焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算?
當(dāng)激勵(lì)電壓加于一次繞組時(shí),只有磁通量是同相的,且二次磁通量較小。當(dāng)試驗(yàn)物體插入該線圈時(shí),將發(fā)生什么情況()。
散射線忽略不計(jì),當(dāng)平板透照厚度的減薄量相當(dāng)于半價(jià)層的1/×?xí)r,則膠片接受的射線照射量將增大百分之幾?
要建筑一個(gè)Ir192透照室,源活度100C,墻外容許照射量率為0.25毫倫/小時(shí),求混凝土墻的厚度至少各多少?(設(shè)工作人員最小工作距離為5米,水泥半減層為3.6cm,Kr=4.72)
新置的Ir192γ射線源,其活度為40Ci,現(xiàn)今時(shí)隔300天,已知,Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度?該源新置時(shí),對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min,若所有條件不變,現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘?
渦流的響應(yīng)()。
阻抗圖中,實(shí)線曲線是什么值不同的曲線()。