問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】光刻技術(shù)的圖形轉(zhuǎn)移分為哪兩個(gè)階段?

答案:

①圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠層
②圖形從光刻膠層轉(zhuǎn)移到晶圓層

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目的:在介質(zhì)薄膜(二氧化硅...
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【簡(jiǎn)答題】說(shuō)明金屬CVD的優(yōu)勢(shì)和主要用途。

答案: LPCVD可以應(yīng)用于制作金屬薄膜
優(yōu)勢(shì):
①不需要昂貴的高真空泵;
②臺(tái)階覆蓋性好;
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