什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

描述電子回旋共振（ECR）。

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？