給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

什么是結(jié)深？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

描述電子回旋共振（ECR）。

描述RF濺射系統(tǒng)。