描述RF濺射系統(tǒng)。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

描述化學(xué)機械平坦化工藝。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

解釋什么是暗場掩模板？

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。