給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。

敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

描述電子回旋共振（ECR）。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。